關(guān)鍵詞：基片 銦鋼 平面反射式 計(jì)量圓光柵 真空鍍膜 

摘要：為了解決目前玻璃基片計(jì)量圓光柵無(wú)法適應(yīng)振動(dòng)強(qiáng)度大、沖擊力強(qiáng)等惡劣環(huán)境的要求,需要改進(jìn)制作計(jì)量圓光柵的基片材料。首先對(duì)光學(xué)樹(shù)脂、銦鋼等材料的特性進(jìn)行比較,得出銦鋼作為基底具有制作計(jì)量圓光柵的可行性;其次,結(jié)合現(xiàn)有的鍍膜復(fù)制工藝,通過(guò)控制膜料質(zhì)量,在蒸鍍真空度1.0×10^3Pa,蒸發(fā)距離為200mm,做出膜厚220nm的單層膜銦鋼基片;最后,參照光刻復(fù)制工藝,通過(guò)控制腐蝕時(shí)間確定線寬深度的工藝參數(shù)下制作出銦鋼基片的單層膜平面反射計(jì)量圓光柵,在50倍顯微鏡下觀察,線條陡直,用它提取出來(lái)的信號(hào)質(zhì)量良好。實(shí)驗(yàn)表明:制作銦鋼單層膜平面反射式計(jì)量圓光柵的工藝參數(shù)正確,為進(jìn)一步廣泛應(yīng)用于精密測(cè)角儀器、光柵計(jì)量設(shè)備和精確跟蹤定位設(shè)備等提供了試驗(yàn)基礎(chǔ)。

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