關鍵詞：光柵 超精密系統 激光直寫 柵距測量 

摘要：二維光柵是光刻機光柵尺系統的核心元件。搭建了超精密激光直寫系統,基于二維超精密工件臺,通過旋轉基片90°進行兩次曝光,制作出柵線密度為1200 line/mm的二維光柵掩模。原子力顯微鏡和掃描電鏡結果表明,所制作的掩模輪廓清晰,空間分布均勻。實驗結果證明了超精密激光直寫系統能夠制作出二維光柵掩模,在制作大尺寸、高精度二維計量光柵方面有著廣闊的應用前景。

光學學報雜志要求:

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