關鍵詞：粒子圖像測速 氣固同軸射流 回流量 回流區域 

摘要：以粒子圖像流場測量(PIV)與計算流體力學(CFD)數值模擬相結合的方法,對氣相和氣固兩相同軸射流流場特性進行了研究,探究了射流速度比、噴嘴直徑、射流空間直徑和射流出口直徑對回流量和回流區域的影響規律。結果表明:射流區和壁面之間存在沿軸向延伸至整個射流長度的回流區域,中等Stokes數顆粒會隨回流氣體改變運動軌跡,聚集在低渦量高應變的回流渦點;射流速度比、噴嘴直徑和射流空間直徑對回流量影響顯著,實驗工況下的最大回流量是射流量的10.29倍;當射流充分發展后,射流出口直徑對回流量沒有影響。通過氣固兩相同軸射流流場特性的研究,為進一步闡明氣固耦合的顆粒彌散機理提供了理論指導。

化學反應工程與工藝雜志要求:

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