關鍵詞：印跡 砷 水熱輔助 吸附模型 動力學 

摘要：采用水熱輔助表面印跡技術,制備了氨基功能化As(V)離子印跡有機-無機雜化材料,利用紅外光譜和掃描電鏡表征了其形貌和表面官能團,采用平衡吸附法研究了印跡雜化材料對As(V)的吸附行為及機理,計算了等溫吸附模型和吸附動力學的參數。結果表明,水熱輔助表面印跡法可以顯著提高印跡雜化材料的吸附容量,在20℃時,吸附量達到47. 5mg/g,吸附平衡時間為30min;在pH 4~9范圍內,pH對吸附容量沒有顯著性影響;離子印跡雜化材料顯示出優異的選擇性,其再生5次后,As(V)的吸附容量沒有大幅降低;As(V)離子在離子印跡雜化材料的吸附過程符合Langmuir和準二級動力學模型。

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