關鍵詞：分布反饋激光器 側向耦合 淺刻蝕光柵 邊模抑制比 

摘要：為了簡化工藝流程和減輕制備難度,提出了1.3μm分布反饋(distributed feedback,DFB)激光器的新型制作方法.該方法采用純折射率側向耦合(laterally coupled,LC)結構,將一階光柵淺刻蝕在脊形波導兩側,避免了激光器材料的二次外延和光柵深刻蝕.采用非摻雜和p摻雜兩種InAs/GaAs量子點(quantum dot,QD)樣品來制備LC-DFB激光器.與采用傳統方法制備的DFB激光器相比,非摻雜量子點LC-DFB激光器表現出了低的閾值電流,其值為1.12mA/量子點層;p摻雜量子點LC-DFB激光器表現出了較大的特征溫度和斜率效率.在室溫下,這種淺刻蝕的LC-DFB激光器實現了單縱模連續輸出,邊模抑制比(side mode suppression ratio,SMSR)高達51dB.同時,在不同的測試溫度和注入電流下,這種激光器表現出了優良的波長穩定性.1.3μm淺刻蝕量子點LC-DFB激光器有望在遠距離光纖通信領域實現巨大應用價值.

上海大學學報·自然科學版雜志要求:

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