關(guān)鍵詞：化學(xué)氣相沉積 石墨烯 制備 薄膜 品質(zhì) 

摘要：石墨烯自發(fā)現(xiàn)以來(lái),因其非常優(yōu)異的電學(xué)、熱學(xué)、光學(xué)和力學(xué)等性能,在高端電子、能源存儲(chǔ)、復(fù)合材料等領(lǐng)域有著廣闊的應(yīng)用前景1。為了解決石墨烯的宏量制備和應(yīng)用問(wèn)題,自2009年以來(lái),化學(xué)氣相沉積(Chemical Vapor Deposition,CVD)方法逐漸成為制備高品質(zhì)石墨烯薄膜的最有效手段之一2。CVD方法制備的石墨烯因其具有質(zhì)量高、層數(shù)可控、可放大性好等特點(diǎn),近幾年被廣泛地關(guān)注,并取得了迅速發(fā)展。

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