關鍵詞：流變拋光 藍寶石 化學機械拋光 表面粗糙度 去除率 

摘要：針對超光滑平面藍寶石襯底片存在亞表層損傷的問題,文中利用磁流變拋光技術進行藍寶石襯底片拋光以滿足現有生產需要,研究了磁流變拋光中拋光壓力、拋光盤轉速、工件盤轉速及拋光液溫度等工藝參數對C向藍寶石襯底片表面粗糙度和去除率的影響。采用正交實驗方法獲得了一組最佳工藝參數為:拋光壓力為25kg,拋光盤轉速為40r·min^-1,工件盤轉速為20r·min^-1,拋光液溫度為38℃。研究結果表明:藍寶石拋光后最優表面粗糙度Ra為0.31nm,去除率達到2.68μm·h^-1。

西安工業大學學報雜志要求:

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