關(guān)鍵詞：干法刻蝕 bcl 3 側(cè)面保護(hù) pr膠刻蝕速度 

摘要：隨著顯示技術(shù)的發(fā)展,Ti/Al/Ti材料需求的厚度越來越厚,布線越來越窄。目前LTPS顯示技術(shù)中常規(guī)的設(shè)計(jì)為Ti/Al/Ti材料襯底使用無(wú)機(jī)膜,后續(xù)柔性O(shè)LED顯示技術(shù)新設(shè)計(jì)中Ti/Al/Ti襯底開始逐漸使用有機(jī)膜(聚酰亞胺等),Ti/Al/Ti干法刻蝕工藝面臨的挑戰(zhàn)越來越大。本文主要研究在常規(guī)Ti/Al/Ti干法刻蝕工藝中,BCl 3氣體對(duì)Ti/Al/Ti側(cè)面形態(tài)的影響以及對(duì)光刻膠刻蝕速率的影響,實(shí)驗(yàn)結(jié)果表明:隨著BCl 3氣體流量的增加,Ti/Al/Ti側(cè)面保護(hù)膜的厚度越來越薄,對(duì)PR膠的刻蝕速率越來越小。本文研究結(jié)果便于更好地應(yīng)對(duì)后續(xù)Ti/Al/Ti干法刻蝕襯底為有機(jī)膜的新工藝。

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