關(guān)鍵詞：磁光成像 無(wú)損檢測(cè) 研究現(xiàn)狀 展望 

摘要：隨著工業(yè)發(fā)展對(duì)智能化、無(wú)污染、高效率的需求,無(wú)損檢測(cè)技術(shù)在工業(yè)中的應(yīng)用是目前各國(guó)的研究重 點(diǎn)。在此基礎(chǔ)上,磁光成像檢測(cè)將成為無(wú)損檢測(cè)領(lǐng)域的主要方法之一。概述了國(guó)內(nèi)外無(wú)損檢測(cè)的發(fā) 展現(xiàn)狀,簡(jiǎn)單介紹了工業(yè)領(lǐng)域常用的無(wú)損檢測(cè)方法;詳細(xì)介紹了磁光成像檢測(cè)技術(shù)的基本原理、激勵(lì) 方式、磁光薄膜和磁光圖像處理方法,并分別對(duì)其發(fā)展現(xiàn)狀和趨勢(shì)作了歸納分析,包括國(guó)外磁光傳感 器成品的簡(jiǎn)介。此外,概述了磁光成像檢測(cè)方法在航空航天業(yè)、工業(yè)鑄鍛焊件、激光焊接焊縫跟蹤及 光學(xué)器件制作中的應(yīng)用;同時(shí)展望了磁光成像檢測(cè)技術(shù)的發(fā)展方向。

制造技術(shù)與機(jī)床雜志要求:

{1}作者姓名、出生年月、單位、職稱(chēng)及聯(lián)系方式。

{2}來(lái)稿需符合上述文稿規(guī)范，否則不予審稿。請(qǐng)勿重復(fù)投稿，請(qǐng)勿一稿多投，稿件錄用后不能撤稿，否則后果自負(fù)。

{3}文章題目不得超過(guò)20 個(gè)字，盡量不用副標(biāo)題，不能含有標(biāo)點(diǎn)符號(hào)。

{4}在正文中引用處右上角加注序號(hào)，所列文獻(xiàn)應(yīng)為原始參考文獻(xiàn)，網(wǎng)絡(luò)文獻(xiàn)應(yīng)給出和引用日期；除非作者人數(shù)在4人或4人以上，否則、應(yīng)列出所有作者姓名，不能用“等”代替。

{5}關(guān)鍵詞應(yīng)有3～5個(gè)。詞與詞之間用分號(hào)分隔。

注：因版權(quán)方要求，不能公開(kāi)全文，如需全文，請(qǐng)咨詢雜志社